ASML признала, что не может гарантировать рост продаж в 2026 году из-за глобальных проблем

[душман]

По традиции, после смены квартала одним из первых индикаторов состояния дел в полупроводниковой отрасли стал финансовый отчёт нидерландской компании ASML, которая является крупнейшим поставщиком литографических сканеров для производства чипов. Хорошие результаты минувшего квартала не позволили ASML оптимистично оценить перспективы 2026 года. Как отметило руководство компании на квартальной отчётной конференции, её финансовые показатели в следующем году пока не могут быть охарактеризованы количественно. 

Формально, ASML рассчитывает на рост, но пока не может подтвердить это чётким прогнозом. До сих пор было принято считать, что потребность в дополнительных количествах чипов для систем искусственного интеллекта будет подогревать спрос и на оборудование для их производства, но ASML на данном этапе не уверена в сохранении подобной динамики. Как отметил генеральный директор Кристоф Фуке, на бизнес компании растущее влияние оказывают макроэкономические и геополитические проблемы. 

Тем не менее, текущий год ASML рассчитывает завершить увеличением выручки на 15 % и достижением нормой прибыли уровня в 52 %. Второй квартал ASML завершила с портфелем заказов на общую сумму 5,54 млрд евро. Аналитики рассчитывали только на 4,44 млрд евро, так что фактические показатели превысили ожидаемые с большим запасом. Кстати, из указанной суммы на долю EUV-сканеров, которые позволяют выпускать самые передовые чипы, пришлось около 2,3 млрд евро. Общая выручка компании во втором квартале сократилась последовательно примерно на 1 % до 7,7 млрд евро, превзойдя ожидания аналитиков. За период было реализовано 67 новых литографических систем и 9 бывших в употреблении. 

Из общего количества сканеров 11 относились к поколению EUV. Чистая прибыль составила 2,3 млрд евро, норма прибыли достигла 54 %. Последний показатель оказался выше собственных ожиданий компании. В прошлом квартале ASML также удалось отгрузить первую из систем серии TwinScan EXE:5200B, которая ориентирована на использование EUV-литографии с высоким значением числовой апертуры (High-NA). С помощью такого оборудования клиенты ASML должны наладить выпуск чипов по литографическим нормам тоньше 2 нм.