SK hynix может лишиться возможности использовать EUV-оборудование для выпуска памяти в Китае

[Ippolitovich]

Производители микросхем оперативной памяти неотвратимо переходят на использование так называемой EUV-литографии, более не считая этот шаг преждевременным или неоправданным экономически. SK hynix тоже не желает отставать от конкурентов, но в случае с модернизацией китайского предприятия компании в дело вмешиваются политические противоречия США и КНР.

 

Как известно, американские власти противятся поставкам передового литографического оборудования в Китай. Местный контрактный производитель SMIC из-за этого уже лишился возможности получить EUV-сканеры ASML, выпущенные в Нидерландах. Противоречить воле американских властей этот европейский производитель тоже не готов, хотя со страниц Reuters робко предостерегает, что увлечение политическими санкциями может усугубить полупроводниковый кризис во многих отраслях.

 

 

Первоисточник сообщает, что корейской компании SK hynix не удалось согласовать поставку EUV-сканеров на своё предприятие в Китае, где они должны были использоваться для выпуска микросхем оперативной памяти. Власти США выразили обеспокоенность тем фактом, что это оборудование может попасть не в те руки на территории Китая. Предприятие SK hynix в Китае обеспечивает почти половину объёмы выпуска микросхем DRAM данной марки, а в масштабах мирового рынка оно отвечает почти за 15 % поставок.

 

 

Отсутствие возможности модернизировать производство в Китае вызовет не только дефицит микросхем памяти на фоне стабильного роста спроса, но и повысит издержки компании SK hynix. Конкурирующие Samsung и Micron тоже переводят производство микросхем оперативной памяти на использование EUV-литографии, но соответствующее оборудование размещают в тех странах, у которых нет явных противоречий с американскими властями.