душман Опубликовано 8 июля, 2020 Поделиться Опубликовано 8 июля, 2020 Исследователи института Samsung открыли новый материал для создания новейшей памяти, который назвали аморфным нитридом бора (a-BN). Стоит отметить, что данное открытие стало возможным благодаря содействию специалистов Ульсанского национального института науки и технологии (UNIST) и Кембриджского университета - именно они помогали ученым из Samsung в поисках необходимого материала. По данным самих авторов открытия, аморфный нитрид бора в конечном итоге способен заметно приблизить появление полупроводниковых материалов следующего поколения, которые и будут использоваться в новейших DRAM (оперативная память) и NAND (флеш-память). В качестве необычных плюсов нового материала можно отметить возможность его использования в качестве изолирующего материала, сводящего к минимуму электрические помехи, а также возможность его “выращивания” на пластинах при сравнительно низкой температуре 400°C. IPTV сервис | Доступные цены кардшаринга | Доступные цены IPTV Ссылка на комментарий Поделиться на другие сайты Поделиться
Рекомендуемые сообщения
Для публикации сообщений создайте учётную запись или авторизуйтесь
Вы должны быть пользователем, чтобы оставить комментарий
Создать учетную запись
Зарегистрируйте новую учётную запись в нашем сообществе. Это очень просто!
Регистрация нового пользователяВойти
Уже есть аккаунт? Войти в систему.
Войти